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二、化学抛光:化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。
三、电解抛光:电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,可以阴极反应的影响,效果较好。电化学抛光过程分为两步:
1、宏观整平
溶解产物向电解液中扩散,材料表面几何粗糙下降,Ra>1μm。
2、微光平整
阳极极化,表面光亮度提高,Ra<1μm。
四、超声波抛光:将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中,依靠超声波的振荡作用,使磨料在工件表面磨削抛光。超声波加工宏观力小,不会引起工件变形,但工装制作和安装较困难。超声波加工可以与化学或电化学方法结合。在溶液腐蚀、电解的基础上,再施加超声波振动搅拌溶液,使工件表面溶解产物脱离,表面附近的腐蚀或电解质均匀;超声波在液体中的空化作用还能够抑制腐蚀过程,利于表面光亮化。该理论虽在微观抛光上获得了较完善的解释,但又不能较好地说明电化学抛光的全过程。
电抛光的电解液通常都是以磷酸为主要成分,同时也需要加入一定的氧化剂(如硫酸、铬酸酐等)。在不通电的情况下,电解液应当对被抛光的金属没有明显的腐蚀作用。并要求电解液对阳极溶解产物的溶解度大,且容易被。此外要求电解液的稳定性好、价廉和毒性低。根据需要也可向电解液中添加少量有机物(如甘油、甲基纤维素等)作为缓蚀剂。使用高氯酸-乙酸电解液进行电抛光,可获得高光洁度的表面。但这种电解液不太稳定,且有爆炸危险,使用不便。这种电解液主要用于制备金相磨片。电抛光的持续时间对抛光质量影响很大。开始的一段时间内,整平速度较大,随后则逐渐减缓,甚至会损害表面已出现的光洁度。
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